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供应半导体、显像管、光学产品等制造业用纯水

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    半导体清洗超纯水设备水质标准:



半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。 



新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。



半导体清洗超纯水设备制备工艺:



1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺) 



2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥16MΩ.CM)(*新工艺) 



3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(*新工艺) 



半导体清洗超纯水设备应用场合:



☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液 



  ☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水 



  ☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 



  ☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液 



  ☆晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制 



  ☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片 



  ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路



  ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏 



  ☆高品质显像管、萤光粉生产 



  ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗 



  ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料 



  ☆实验室和中试车间 



  ☆汽车、家电表面抛光处理 



  ☆光电产品、其他高科技精微产品

 
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